含高濃度氯離子的介質(zhì)（氯離子濃度＞10000mg/L）易對金屬產(chǎn)生點(diǎn)蝕（局部腐蝕形成孔洞）與縫隙腐蝕（密封縫隙處腐蝕），需選用耐氯材質(zhì)并優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，具體措施如下：

核心防腐蝕措施：

耐氯材質(zhì)選型：

探頭材質(zhì)：選用雙相不銹鋼 2507（含鉻 25%、鉬 4%、氮 0.28%），耐氯離子點(diǎn)蝕能力優(yōu)異（在 20% 鹽水、25℃下腐蝕速率＜0.005mm / 年），點(diǎn)蝕電位＞1000mV（vs SCE），遠(yuǎn)高于 316L 不銹鋼（點(diǎn)蝕電位 400~600mV）；若氯離子濃度超 50000mg/L，需選用哈氏合金 C-276（點(diǎn)蝕電位＞1200mV），耐受氯離子腐蝕。

密封件材質(zhì)：選用全氟醚橡膠（FFKM，耐氯離子滲透，在 20% 鹽水中浸泡 1 年，體積變化＜3%），避免丁腈橡膠（易被氯離子腐蝕，3 個(gè)月內(nèi)出現(xiàn)裂紋）。

結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)優(yōu)化（防縫隙腐蝕）：

無縫隙連接：探頭與法蘭采用 “焊接式連接"（激光焊接，焊縫無間隙），替代螺紋連接（螺紋縫隙易積聚氯離子，引發(fā)縫隙腐蝕）；法蘭與儲罐接口采用 “金屬面密封"（銅墊片，塑性好，無密封縫隙），配合高溫密封膠（如 3M 5200），縫隙。

表面處理：探頭表面采用 “鈍化處理 + 電解拋光"，鈍化處理形成致密氧化膜（Cr?O?），厚度 5~10μm，增強(qiáng)抗點(diǎn)蝕能力；電解拋光使表面粗糙度 Ra≤0.2μm，減少氯離子吸附點(diǎn)，降低點(diǎn)蝕風(fēng)險(xiǎn)。

輔助防護(hù)工藝：

陰保護(hù)：在儲罐內(nèi)安裝 “犧牲陽"（如鋅合金陽，犧牲陽優(yōu)先腐蝕），通過電纜與探頭連接，使探頭處于陰保護(hù)狀態(tài)（電位維持在 - 800~-900mV vs SCE），氯離子腐蝕；定期檢查損耗情況（每 6 個(gè)月 1 次），消耗超 50% 時(shí)更換。

緩蝕劑添加：若介質(zhì)允許，向儲罐內(nèi)添加 “氯離子緩蝕劑"（如苯并三氮唑，添加量 0.1%~0.5%），緩蝕劑吸附在探頭表面，形成保護(hù)膜，阻止氯離子與金屬接觸，緩蝕效率可達(dá) 90% 以上。

維護(hù)與檢測要點(diǎn)：

每 1 個(gè)月用清水沖洗探頭表面，去除殘留的高濃度氯離子；每 3 個(gè)月用 “點(diǎn)蝕檢測儀" 檢查探頭表面（若發(fā)現(xiàn)直徑＞0.1mm 的點(diǎn)蝕孔洞，需更換探頭）；每 6 個(gè)月測量探頭電位（確保處于保護(hù)電位范圍），若電位異常，調(diào)整犧牲或緩蝕劑添加量。